名称：四氟化氙
英文名称：Xenon tetrafluoride
分子式：XeF4
分子量：207.284 g/mol
标签：暂无
编号系统
13709-61-0
暂无
237-251-2
ZE1294166
暂无
暂无
物性数据
1.性状：四氟化氙的分子构型为平面四边形，无色单斜晶系结晶。
2.密度（g/cm3）：4.04。
3.熔点（℃）：117.1。
毒理学数据
暂无
生态学数据
暂无
分子结构数据
暂无
计算化学数据
1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无
2.氢键供体数量:0
3.氢键受体数量:4
4.可旋转化学键数量:0
5.互变异构体数量:无
6.拓扑分子极性表面积0
7.重原子数量:5
8.表面电荷:0
9.复杂度:19.1
10.同位素原子数量:0
11.确定原子立构中心数量:0
12.不确定原子立构中心数量:0
13.确定化学键立构中心数量:0
14.不确定化学键立构中心数量:0
15.共价键单元数量:1
性质与稳定性
贮存方法
暂无
合成方法
制备XeF4的常用方法是在镍反应器中加热氙和氟的混合气体，并使原料气中F2/Xe比为5∶1，在400℃的温度下反应1h，反应完成后使反应器迅速冷却，但产物中混有一些XeF6和XeF2。
制法 以氙和二氟化二氧在低温低压下反应制备四氟化氙。
反应中所用不锈钢容器和真空管线预先用ClF3和XeF6进行钝化处理，然后抽真空一整天。O2F2直接由F2和O2合成，此光化学合成反应在装有蓝宝石窗的铜反应器中进行，混合气体中F2和O2的配比为1∶1。
在-196℃的温度下，将约0.4g氙和大过量的(10倍或更多)O2F2冷凝在一容积为35mL的圆柱形不锈钢反应器中，接着将反应器置于-155℃的冷浴(CF2Cl2/液氮)中，并慢慢升温，使温度在2～4h内达到-120℃。随后将反应器置于装有干冰的杜瓦瓶中，并控制温度为-78℃，保持在此温度下过夜，在此期间过剩的O2F2分解为O2和F2，挥发性的物质通过一冷却至-196℃的冷阱，其中O2和F2被除去，此冷阱中也会有一些白色的固体物质。将-196℃的杜瓦瓶换成-78℃的杜瓦瓶，继续抽真空1h，产物中混有的CF4，COF2和SiF4等杂质即被除去。剩余的固体物质为XeF4和XeF2的混合物。按照上面所述的同样方法，再用O2F2与XeF4和XeF2的混合物反应，最后氙几乎是定量地转化为XeF4。
用途
四氟化氙是稳定的化合物，可长期储存在镍容器中，是一种很强的氧化剂和氟化剂，与水剧烈反应生成Xe,O2,HF和XeO3。
安全信息
UN 3087 5.1/PG 2
极毒 氧化剂
S17 S26 S28 S45 S36/S37/S39
R8 R25 R26 R34
文献
暂无
备注
暂无